北京师范大学化学学院
     
 
马淑兰老师J. Am. Chem. Soc.论文介绍

发布时间: 2016-07-14  浏览次数:


MoS4-LDH
插层体对重金属离子的高选择性吸附和有效去除

 

MoS42-离子插层NO3-LDH形成的插层复合体MoS4-LDH,可有效去除Cu2+Pb2+Ag+Hg2+等重金属离子,对金属离子选择性顺序为Co2+,Ni2+, Zn2+ < Cd2+ Pb2+ < Cu2+ < Hg2+ < Ag+,对Hg2+Ag+的最大吸附量分别为500 mg/g450 mg/g,分配常数Kd高达107 mL/g。该材料能够快速将溶液中Cu2+, Pb2+, Hg2+, Ag+的浓度从ppm级降低至≤1 ppb级。对高毒性Hg2+MoS4-LDH能快速去除,5分钟去除率97.3%30分钟达99.7%1小时去除率可达100%。动力学过程研究表明符合拟二级速率方程,吸附机理为M-S间键合的化学吸附。吸附后样品研究发现不同配位和插层结构,丰富了LDH插层化学和硫属化合物络合化学。此MoS4-LDH有望成为治理重金属污染水体的理想材料。

 


 
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